Осаждение хромовых покрытий с помощью магнетронного распыления «горячей» мишени с ассистированием внешним плазменным источником = Chromium coating deposition using hot target magnetron sputtering enhanced by additional plasma source / А. А. Бондарь, В. А. Грудинин, Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Д. В. Сиделёв

Set Level: Перспективы развития фундаментальных наук, Prospects of Fundamental Sciences Development, сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г., в 7 т. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой = 2022Main Author: Бондарь, А. А., физик, инженер-исследователь Томского политехнического университета, 1999-, Альберт АлексеевичCoauthor: Грудинин, В. А., физик, инженер Томского политехнического университета, 1995-, Владислав Алексеевич;Сиделёв, Д. В., физик, инженер кафедры Томского политехнического университета, 1991-, Дмитрий ВладимировичSecondary Author: Сиделёв, Д. В., физик, инженер кафедры Томского политехнического университета, 1991-, Дмитрий ВладимировичCorporate Author (Secondary): Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Инженерная школа ядерных технологий, Научно-образовательный центр Б. П. ВейнбергаLanguage: русский.Country: Россия.Abstract: This work shows the possibility to tailor a hardness of 1 µm-thick Cr coatings obtained by high-rate deposition using magnetron sputtering with a "hot" target. For this purpose, an external plasma source was additionally applied to control the hardness of the Cr coatings in the range of 4 to 18 GPa..Bibliography: [Библиогр.: с. 37 (4 назв.)].Subject: электронный ресурс | труды учёных ТПУ | хромовые покрытия | магнетронное распыление | мишени | плазменные источники | плазма | осаждение Online Resources:Click here to access online
Tags from this library: No tags from this library for this title. Log in to add tags.
Star ratings
    Average rating: 0.0 (0 votes)
No physical items for this record

Заглавие с экрана

[Библиогр.: с. 37 (4 назв.)]

This work shows the possibility to tailor a hardness of 1 µm-thick Cr coatings obtained by high-rate deposition using magnetron sputtering with a "hot" target. For this purpose, an external plasma source was additionally applied to control the hardness of the Cr coatings in the range of 4 to 18 GPa.

There are no comments on this title.

to post a comment.