Ионная имплантация : пер. с нем. / Х. Риссел, И. Руге
Language: русский ; of original work, немецкий.Country: Россия.Publication: Москва : Наука, 1983Description: 360 с. : ил.Bibliography: Библиогр.: с. 345-360.Subject: полупроводники | ионная имплантация | твердые тела | оборудование | имплантационные слои | исследования | ионно-легированные слои | свойства | полупроводниковые приборы| Cover image | Item type | Current library | Home library | Collection | Shelving location | Call number | Materials specified | Vol info | URL | Copy number | Status | Notes | Date due | Barcode | Item holds | Item hold queue priority | Course reserves | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Books | НТБ ТПУ Научный фонд | 84-2533 | Available | 13821000636813 | ||||||||||||||
| Books | НТБ ТПУ Научный фонд | 84-5282 | Available | 13821000186386 | ||||||||||||||
| Books | НТБ ТПУ Учебный фонд | 539.2 Р546 | Available | 13821000107740 | ||||||||||||||
| Books | НТБ ТПУ Учебный фонд | 539.2 Р546 | Available | 13821000011245 | ||||||||||||||
| Books | НТБ ТПУ Учебный фонд | 539.2 Р546 | Available | 13821000207657 |
Total holds: 0
Библиогр.: с. 345-360
There are no comments on this title.
Log in to your account to post a comment.