Ионная имплантация : пер. с нем. / Х. Риссел, И. Руге

Main Author: Риссел, Х.Coauthor: Руге, И.Language: русский ; of original work, немецкий.Country: Россия.Publication: Москва : Наука, 1983Description: 360 с. : ил.Bibliography: Библиогр.: с. 345-360.Subject: полупроводники | ионная имплантация | твердые тела | оборудование | имплантационные слои | исследования | ионно-легированные слои | свойства | полупроводниковые приборы
Tags from this library: No tags from this library for this title. Log in to add tags.
Star ratings
    Average rating: 0.0 (0 votes)
Holdings
Item type Current library Call number Status Barcode
Books НТБ ТПУ Научный фонд 84-2533 Available 13821000636813
Books НТБ ТПУ Научный фонд 84-5282 Available 13821000186386
Books НТБ ТПУ Учебный фонд 539.2 Р546 Available 13821000107740
Books НТБ ТПУ Учебный фонд 539.2 Р546 Available 13821000011245
Books НТБ ТПУ Учебный фонд 539.2 Р546 Available 13821000207657
Total holds: 0

Библиогр.: с. 345-360

There are no comments on this title.

to post a comment.